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QB-WF-I

光刻晶片测试系统

0.5 mm 测试头,四轴机器人

接受客户订制的工艺与制程分析设备,适应光刻晶圆开发设计以及小规模生产各环节的量测频率要求。可测试晶圆光片(腐蚀前)、腐蚀后、带镀膜的、划片后的散粒晶片与散粒 MESA。图像处理系统清晰识别定位晶圆子片,高精度四轴机器人保证重复定位精度。

向下看参数与细节
QB-WF-I

0.4 × 0.4 mm 子片

图像处理系统清晰识别并定位。

0.5 mm 测试头

针对两面不接触与超高频片优化。

四轴机器人

重复定位精度高,可指定点位验证。

PPM 分布图

子片分布图 + Excel 报表,参数可追溯。

技术指标

技术指标

适用晶片
晶圆光片(腐蚀前)、腐蚀后、带镀膜、划片后散粒晶片、散粒 MESA
测试头
直径 0.5 mm
定位
图像处理系统识别 + 高精度四轴机器人
子片尺寸
可识别约 0.4 × 0.4 mm
测频配置
禄宪网络测试仪 2–200 MHz;可接 Keysight / Siglent 网分
输出
频率数据、子片 PPM 分布图、Excel 报表
示例
587 MHz 连测波形(见右图)
工作环境
温度 25±5℃,湿度 55%–75%
细节

细节与输出

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